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Intel svela i dettagli su Broadwell da 14 nm

Tags: IntelTrigatetransistorfinfet14nmdiebroadwellcore m

Intel ha rivelato alcuni dettagli della sua nuova microarchitettura, ottimizzata con l'innovativo processo di produzione Intel a 14 nm. Nell'insieme, queste tecnologie offriranno funzionalità ad elevate prestazioni e a basso consumo energetico destinate a rispondere a un'ampia gamma di requisiti informatici e offriranno prodotti che spaziano dall'infrastruttura del cloud computing e dell'Internet delle cose fino ai PC e al mobile computing. 

Broadwell Die Diagonal BW

PUNTI PRINCIPALI:

  • Intel ha rivelato alcuni dettagli della microarchitettura del processore Intel® Core™ M, il primo prodotto che verrà realizzato con il processo di produzione a 14 nm.
  • La combinazione della nuova architettura e del processo di produzione favorirà una nuova ondata di innovazione in termini di fattori di forma, esperienze utente e sistemi, che saranno più sottili, più silenziosi e con temperatura sotto controllo.
  • Gli ingegneri e i progettisti di chip di Intel hanno più che dimezzato il Thermal Design Point rispetto alla precedente generazione di processori, a fronte di prestazioni similari e di una durata migliorata della batteria.
  • La nuova architettura è stata ottimizzata per trarre vantaggio dalle nuove funzionalità del processo di produzione a 14 nm.
  • Intel ha avviato la produzione in grandi quantitativi della prima tecnologia a 14 nm del mondo. Prevede l'utilizzo di transistor tri-gate di seconda generazione (FinFET), con prestazioni, potenza, densità e costo per transistor leader del settore.
  • La tecnologia Intel a 14 nm verrà utilizzata per produrre un'ampia gamma di prodotti ad elevate prestazioni e a basso consumo, tra cui  server, PC e dispositivi per l'Internet delle cose.
  • I primi sistemi basati sul processore Intel® Core™ M saranno introdotti  sul mercato a partire dal  periodo delle festività natalizie, e saranno più ampiamente disponibili presso gli OEM nel primo semestre del 2015.
  • Nei prossimi mesi verranno introdotti ulteriori prodotti basati sulla microarchitettura Broadwell e sulla tecnologia di processo a 14 nm.
  • Per ulteriori informazioni e immagini, visitate il sito Web all'indirizzo: http://intel.ly/1sEBd1e

Broadwell Package Diagonal

"Il modello integrato di Intel, ossia la combinazione delle nostre competenze di progettazione e del miglior processo di produzione, ci consente di offrire prestazioni più elevate e basso consumo ai clienti e ai consumatori", ha affermato Rani Borkar, Vice President di Intel e General Manager della divisione Product Development. "Questa nuova microarchitettura rappresenta un traguardo tecnico significativo. È la dimostrazione dell'importanza della nostra filosofia rivoluzionaria nella progettazione, che soddisfa i requisiti dei clienti".

"La tecnologia a 14 nanometri di Intel prevede l'utilizzo di transistor tri-gate di seconda generazione per offrire prestazioni, potenza, densità e costo per transistor leader del settore", ha spiegato Mark Bohr, Senior Fellow del Technology and Manufacturing Group e Director della divisione Process Architecture and Integration di Intel. "Gli investimenti effettuati e l'impegno di Intel nei confronti della Legge di Moore sono alla base dei risultati ottenuti dai nostri team con questo nuovo processo di produzione".

 

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